韩国发布“K-半导体战略” 三星电子若每年追加投资17万亿韩元半导体设施 将追加减免6800亿韩元

据韩联社5月13日报道，韩国政府13日发表了将半导体企业设施投资税额的扣除率最高上调20%、研发(R&D)投资上调至50%的“K-半导体战略”。韩国政府首先决定，在对企业的税额减免中，新设“核心战略技术(暂称)跑道”，对属于该领域的企业研发(R&D)投资，给予比现行制度更大的税制优惠。

根据现行的《税收特例限制法》，政府将从税金中减免企业研究、人力开发费或事业设施投资费用乘一定比率(扣除率)得出的金额。对于需要维持全球竞争优势的核心技术，将大幅提高扣除率，这是此次战略的重点。

例如，如果是普通设施投资，最高扣除率只有10%（以中小企业为准），但如果是对核心战略技术相关设施投资，扣除率将上升到16%。对超过前三年平均投资额的金额，还将提供4%的追加减免优惠。如果一家中小企业首次向核心技术设施投资100亿韩元，那么投资额的16%（16亿韩元）和投资额增加部分的4%（4亿韩元）加起来，该企业共可得到20亿韩元的税额减免。大企业扣除率为6%，低于中小企业，加上对投资增加部分4%的追加扣除优惠，最高可以享受10%的税额减免。

以韩国代表性半导体企业三星电子为例。此前，三星电子去年支出了约33万亿韩元的半导体设备投资金额，并表示到2030年为止将在系统半导体领域投资171万亿韩元。假设三星电子在明年一年内追加投入17万亿韩元规模的资金，共投资50万亿韩元用于半导体设备，按以前的标准（新增长源泉技术）税额减免额为2.01万亿韩元（占总投资额50万亿韩元3%+追加投资额17万亿韩元3%）。但如果半导体被选定为核心战略技术，税金减免额将增加到总投资额的6%（3万亿韩元）和追加投资额的4%（6800亿韩元），合计为3.68万亿韩元。根据设施投资认定范围，实际扣除金额会有所不同。

此外，对核心战略技术设施投资、商用化前的量产设施也将包括在投资范围内。其宗旨是，在实现商用化之前，适用税制优惠，提高支援的实效性。研发(R&D)投资也同样提供包括追加扣除优惠在内的最高50%的税额减免优惠。

这些优惠政策将暂时适用到2024年，从今年下半年开始迅速适用。