美国缘何将16家中国企业从未经证实名单(UVL)中移除
10月9日,16家中国企业被美国商务部移出未经证实名单(UVL),意味着这些企业的相关交易不会受到美国出口管制。未经证实名单(UVL)与实体清单(ENT)不同,实体清单基本就是美国禁运名单。
走出去智库(CGGT)观察到,按照美国法律,被列入未经证实名单(UVL)的企业因未配合美国政府的相关调查,美国政府无法核实这些企业是否可靠,出于警告本国企业的目的将这些企业列入UVL名单。
美国为何将这些中国企业移除未经证实名单(UVL)?今天,走出去智库(CGGT)刊发中伦律师事务所高级法律顾问张国勋等律师的分析文章,供关注跨境合规管理的读者参阅。
要 点
1、美国出口管制的清单主要包括3种:实体清单(ENT)、被拒绝人名单(DPL)和未经证实名单(UVL)。虽然UVL的负面影响低于DPL和ENT,但被列入UVL还是会给实体带来一些负面影响。
2、企业需对交易标的进行确认,判定标的是否属于EAR管制物项,如属于管制物项,则需要进一步确认其ECCN编码或者是否属于EAR99的分类。
3、企业应做好针对BIS的实地核查的充分准备,如依据政府部门发布的出口管制内控机制指南完善内部审计、保存材料文件、准备问题回答等。
2020年10月9日,美国商务部产业安全局(BIS)发布对未经证实名单(Unverified List, “UVL”)的修订。本次修订新增26个实体,移除40个实体。其中,有16个中国大陆的实体被移除,被移除的原因为:美方能够对被列入UVL的实体开展最终用途核查并验证其“善意”(Bona Fide),或者公司在中国不再参与从美国进口物项的经营活动。
那么,UVL清单是什么清单,和通常说的实体清单有什么不一样,对企业的影响如何?一旦被列入后如何移除?笔者结合全程协助部分中国企业与中美双方监管机构汇报协调,提出移除申请,帮助客户从UVL中被移除的经验,对美国出口管制法中的UVL制度进行简要介绍。
一、未经证实名单(UVL)的概述
美国有着严格明晰的出口管制法规体系,而许可证制度是美国出口管制领域的核心执法手段。根据《出口管理条例》(EAR)的规定,对于需要许可证才可出口的两用管制物项,企业需要向政府部门提出申请,经批准后获得许可证才能出口。个人或企业未获得出口许可而出口管制物项属于违法行为,情节严重可能受到美国商务部工业安全局(BIS)的处罚,被列入出口管制清单是一种警示预防及处罚管制措施。出口管制的清单主要包括3种:实体清单(Entity List,“ENT”)、被拒绝人名单(Denied Persons List,“DPL”)和未经证实名单(Unverified List)。涉及本次移除的清单是最后一种,即未经证实名单(UVL)。
如果BIS无法通过许可前检查(pre-license check, “PLC”)、装运后核查(post-shipment verification, “PSV”)或是其他替代性措施来证实某一实体最终用户和最终用途的合法性和可靠性,则将会把该实体纳入UVL名单中。前述最终用途是指货物和技术的实际应用目的,最终用户是指接受并最终使用出口或再出口物项的外国人,不包括运输代理人或中介,而是指买方或最终收货人。BIS有三种方式对出口许可申请进行审查:(一)对出口许可申请进行许可前检查;(二)对出口物项进行交货前检查和交货后检查;(三)自行派人或者委托驻外使馆的人员到目的地国进行最终用途的现场核查。
被列入UVL的外国个人或实体,主要是在美国出口、再出口或在国内转让美国货物或技术交易的参与方。有两种被列入该名单的情形:BIS无法完成最终用途核查来证实这些实体的“善意”或者进行了最终用途核查但是无法证实其“善意”。发生上述情况的主要原因如下:
首先,导致BIS无法完成最终用途核查的原因有很多,受到最终用途核查的当事方是否配合调查是其中一项。BIS无法在出口单据上注明的地址找到实体,也无法通过电话或电子邮件与实体沟通也是可能的原因。
另一种情况是BIS进行了最终用途核查,但是无法核实当事方的“善意”。“善意”系指与受EAR管制物项的最终用途和最终用户相关的合法性和可靠性。在核查期间,BIS不能对接收方的受EAR管制物项进行目测检查,接收方无法提供足够文件或者其他证据来证明管制物项处理情况的,BIS都会将其视作缺乏“善意”。由于被核查的实体无法在最终用途核查中证明其善意,BIS将会对此类实体作为未来出口、再出口或国内转让受EAR管制物项合适性(Suitability)产生担忧,美方可能会认为此类物项有被转用于被禁止的最终用途和最终用户的可能性。
二、未经证实名单(UVL)对被列入实体的影响
虽然UVL的负面影响低于DPL和ENT的名单,但被列入未经证实名单主要会给实体带来一些负面影响:
(一)未经证实名单上的实体无法通过许可例外来接收美国出口、再出口或者转让(国内)的物项;
(二)即使是出口不涉及《出口管理条例》管制下的物项,出口商在与未经证实名单上的个人或实体进行交易时,也需要从前述个人或实体处获取并保留记录(未经证实名单声明,即UVL statement(声明),详述在下文);
(三)美国出口商如向UVL中的实体出口EAR管制下的有形商品(tangible thing),无论商品的最终目的地或者金额,都需要在自动出口系统(Automated Export System, “AES”)中事先进行电子出口信息(Electronic Export Information, “EEI”)的申报;
(四)实践中,被列入UVL中国企业的供应链稳定性会受到冲击。对于被列入UVL的企业,交易各方都会对其展开尽职调查。而美国的出口商和公司将以更为谨慎的态度对待这些实体,为了降低风险甚至会选择拒绝与被列入UVL的中国企业合作。
综上,被列入UVL将会对实体的经营发展带来不小的负面效果。无论从法律角度还是商业角度来看,企业在被列入名单后需要也可以积极采取行动,减少损失,维护商誉。
三、未经证实名单(UVL)的移除程序
被列入UVL的企业可以采取有关措施以争取从名单中被移除。EAR第744部分第15条(d)款规定了从UVL移除的程序,其关键是要接受BIS用户访问, BIS会根据申请进行实地核查或者采用其他替代程序以核实,从而确保被列入UVL的实体对受EAR管控物项最终用户和最终用途相关的合法性和可靠性为了验证提出申请实体的“善意”,BIS会进行实地核查(On-site Verification)。企业必须通过实地核查的验证合格才可以从UVL名单中移除,在准备接受核查的过程中必须严格遵守中国商务部2007年60号公告[1]。当BIS顺利完成核查并确认实体的“善意”后,该等实体将会从清单中被移除,相关移除结果也会在官方网站上予以公告。
四、对中国企业的风险提示和合规建议
(一) 如何避免被列入UVL
避免被列入UVL的前提是遵守美国出口管制的法规制度。当交易标的涉及美国物项时,企业应当确保交易符合美国出口管制法规。具体而言,企业需对交易标的进行确认,判定标的是否属于EAR管制物项,如属于管制物项,则需要进一步确认其ECCN编码或者是否属于EAR99的分类。同时,企业应当建立完善交易筛选流程,建立起企业日常的“黑名单”筛查制度,并针对不同的国家和地区,对最终用户和最终用途进行筛查,让交易流程在合规合法情况下推动。此外,企业应将妥善保存与交易有关的文件和记录,以应对将来可能发生的BIS的调查。如果业务人员在交易中发现危险信号(Red Flag),应当迅速调查核实。
(二) 被列入UVL之后的应对
中国企业在被列入UVL后,应采取积极行动以争取从名单中被移除,做好接受最终用户访问的准备。首先,及时聘用中美两国的律师来提供双向的解决方案和应对策略。有了第三方专业机构的支持,企业可以联系BIS以确认被列入原因并根据原因做好资料准备。企业应做好针对BIS的实地核查的充分准备,如依据政府部门发布的出口管制内控机制指南[2]完善内部审计、保存材料文件、准备问题回答等。
UVL的移除程序需要持续数月或更长的时间。被列入UVL的中国企业应正确利用这段时间,积极与出口商沟通并寻求其支持,并准备UVL statement(声明)来维持供应链的运转。
根据EAR第744部分第15节的规定,UVL statement(声明)必须是书面形式的,由拥有足够约束UVL实体权限的人签名和署上日期。UVL statement(声明)应包括如下内容:
1. UVL实体的名称、地址(包括注册地址、实际营业地址、收货地址、最终收货人/用户地址)、电话、传真、电邮、网址等,以充分证明实体真实存在而且可以通过该等方式联系到该实体;
2. 同意最终用途控制(不用于任何受控目的,例如大规模杀伤武器、恐怖活动等),同意不会违反EAR关于最终目的地、用途和用户的禁止性规定进行再出口或者国内转让;
3. 明确声明交易物项的最终用途、最终用户、最终地址;
4. 同意及时配合BIS对过往五年内涉及受控美国物项的所有交易进行最终用途核查(包含发货后跟进核查),提供充分和准确的信息;
5. 同意提供相关的交易和证明文件;
6. 关于签署人有权签署UVL statement(声明)并对UVL实体产生约束力的声明。
(三) 搭建贸易合规体系
与其亡羊补牢不如未雨绸缪,中国企业应搭建全面、高效的贸易合规体系,以识别出对外贸易中的出口管制风险并及时采取应对措施,一套有效的出口合规内控管理体系贯穿了研发、设计、采购、生产、销售等全流程。建立完善的贸易合规体系有助于企业在降低被列入UVL清单几率的同时,增强企业在贸易经营方面的优势。
附件:
本次修订被移出UVL的16个中国大陆实体(附参考翻译)
1. Aisin Nantong Technical Center, No 11 Chen Yang Road, Nantong Development Zone Nantong, China;
爱信(南通)技术中心
2. Beijing Institute of Nanoenergy and Nanosystems, 30 Xue YuanLu HaiDianQu, Beijing, China 100083;
中国科学院北京纳米能源与系统研究所;
3. Changchun Institute of Applied Chemistry, Chinese Academy of Sciences, 5625 Renmin Street, Changchun City, China 130022;
中国科学院长春应用化学研究所;
4. Institute of Geology, Chinese Academy of Geological Sciences, No. 26, Baiwanzhuang Street, Beijing, 100037, China;
中国地质科学院地质研究所;
5. Ningbo Zhongxian Optoelectronic Technology Co, Ltd., Floor 11 Technology Innovation Center, No. 1188 Binhai 2nd Road, Hangzhou Bay New District, Ningbo, Zheijiang, China 315336;
宁波中显光电科技有限公司;
6. Renmin University, No. 59 Zhongguancun Street, Haidian District, Beijing, China 100872;
中国人民大学;
7. Shanghai Institute of Technical Physics, Chinese Academy of Sciences, 500 Yu Tian Road, Shanghai, China 200083;
中国科学院上海技术物理研究所;
8. Shanghai SKEQI Automation Engineering Co., Bldg 8, No. 650 Guanghua Road, Songjiang District, Shanghai, China;
上海思客琦自动化工程有限公司;
9. Shi Jia Zhuang Suin Instruments, A-2 No. 99 Yuyuan Road, LuQuan District, Shijiazhuang, China 050000;
石家庄数英仪器有限公司;
10. Termei Torch & Tip Company, No. 9 Huanbao 3rd Road, Xinbei District, Changzhou, Jiangsu,
China 213034;
常州特尔玛枪嘴有限公司;
11. Tongji University, 1239 Siping Road, Shanghai, China 200092;
上海同济大学;
12. Xi’an Caijing Opto-Electronics, Science & Technology Co., Ltd, No. 168, East Zhangba Road, Shaanxi Province, Xi’an City, China;
西安彩晶光电科技股份有限公司;
13. Xi’an Jiaotong University, School of Electrical Engineering, No. 28 Xianning West Road, Xi’an, Shaanxi, China 710049;
西安交通大学电子工程学院;
14. Xi’an Jiaotong University, No. 99 Yanxiang Road, Qujiang, Xi’an, China 71000;
西安交通大学;
15. Xi’an Micromach Photon Manufacture Technology, No. 60 Western Road, New High Tech Park, Xi’an, China, 710000;
西安中科微精光子制造科技有限公司;
16. Yunnan Observatories, Chinese Academy of Sciences (CAS), No. 396 Yangfangwang, Kunming, Yunnan, China 650216.
中国科学院云南天文台。
文/张国勋 刘向东 沈捷西
中伦律师事务所